BOE(京东方)创新研发光刻AMQLED:突破传统制程分辨率限制,引领量子点显示行业新风向

近日,BOE(京东方)基于量子点直接光刻工艺(direct photolithography of quantum dots in QLED, DP-QLED)开发的4.7英寸650 PPI 主动矩阵量子点发光二极管(AMQLED)显示样机惊艳亮相2023 SID国际显示周,引发业界广泛关注。

京东方4.7英寸650PPI光刻法AMQLED亮相2023 SID

BOE(京东方)这款光刻法AMQLED样机对比度超过10,000,000 : 1,色域可达85% BT2020,是京东方继自主研发出5英寸、14英寸、55英寸4K(80PPI)、55英寸8K(160PPI)等多款电致发光AMQLED显示屏后,所推出的又一款颠覆性AMQLED技术,再一次引领了量子点显示的行业技术新风向,也标志着京东方率先将AMQLED这一颠覆性创新显示技术进入量产验证阶段,进一步提升了中国显示产业在全球的领先地位。

1、无需FMM,制程更简单,产品开发更高效

BOE(京东方)开发的量子点直接光刻(DP-QLED)工艺,仅需要涂膜、曝光、显影三步即实现了一种量子点的图案化;相对于其它光刻图案化工艺,步骤减少,无需引入附加结构,可有效提升效率、成本可大幅降低。该工艺无需使用昂贵且制作周期长的精细金属掩模版(FMM),通过使用成熟度高的曝光光罩,量子点直接光刻(DP-QLED)即可在全尺寸领域范围内实现高度自由的尺寸与像素密度的规格组合、高度自由的像素排布设计、更高的开口率和器件寿命、更简单的工艺制程及更灵活、高效的产品开发。

2、突破传统制程分辨率限制,助力实现显示领域全尺寸覆盖

由于量子点材料为无机纳米粒子,此前业界普遍认为其量产方式为喷墨打印工艺。由于喷墨打印精度的限制,其应用领域通常被认为局限在300PPI及以下分辨率的大尺寸显示产品。BOE(京东方)特有的量子点直接光刻(DP-QLED)图案化工艺,突破了传统蒸镀与喷墨打印制程对分辨率的限制,其分辨率理论上取决于曝光机及光罩的精度,在原理上甚至可以得到亚微米级的图案线宽,达到10000PPI以上的像素密度。

BOE(京东方)量子点光刻法极大推动了QLED技术在中、小尺寸面板市场以及微显示市场的商业化进程,助力实现QLED技术在显示领域的全尺寸覆盖,为客户带来极致的视觉体验。